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Quantis™ 抛光研磨液

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海博锐代码: Quantis

应用场合:研磨与抛光

描述:一种获得专利的独特超细微米级金刚石研磨液,在需要最高质量表面光洁度的应用中可实现出色的抛光性能。

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Quantis™抛光研磨液是一种获得专利的超细金刚石研磨液,专为提升碳化硅(SiC)、蓝宝石、氮化镓(GaN)以及砷化镓(GaAs)等难加工基材的抛光性能而设计。

Quantis由具有独特表面(表面有许多精细的微切割点)的金刚石制成,能够实现卓越的材料去除率,显著缩短了晶圆生产过程中最后的化学机械抛光(CMP)步骤。

Quantis™的优势

 

大大减少抛光研磨液的使用量

 

Quantis研磨液使制造商能够大幅减少与化学机械抛光(CMP)相关的时间和成本。Quantis能在化学机械抛光前迅速有效地去除晶圆厚度,同时在抛光过程中提供极低的表面粗糙度值,从而减少CMP抛光液的最终用量。,晶圆制造商可将CMP处理时间缩短一半,同时减少昂贵的CMP抛光液所需用量,从而提高加工效率。通过使用Quantis研磨液,晶圆制造商在对可用于外延准备好的晶圆(epi-ready wafer)进行抛光时,有望实现高达 70% 的抛光研磨液节约

 

降低处理成本

 

由于配方中含有高锰酸盐成分,传统的CMP抛光液大多被视为有害物,这意味着在处置之前必须对其进行中和处理。严格的处理流程导致了废物处理系统成本增加,这通常会延长生产时间。

Quantis研磨液由零有害废弃物的环保悬浮液制成,为有害CMP抛光液提供了一种高效且具成本效益的抛光替代方案。晶圆制造商可以使用Quantis抛光研磨液来简化废物管理流程,并最大限度地减少不必要的处理成本。

 

提高晶圆良率

 

通过减少晶圆划伤来实现高质量的表面光洁度。与其他金刚石研磨液产品相比,Quantis能以更快的速度对晶圆进行抛光,返工和出错情况更少。它是在亚微米级范围内研发的,可用于研磨机或化学机械抛光机,为晶圆生产提供了灵活性,能为晶圆制造商提供稳定且可靠的供应,并消除生产放缓方面的顾虑。

主要应用和行业

 

抛光研磨液因其超细金刚石晶体具有独特的改性金刚石表面,非常适用于需要精密抛光的应用场合,能极大地降低工件表面粗糙度

抛光研磨液的主要应用之一是碳化硅晶圆制造。碳化硅具有极高的硬度和脆性的特征,因此使用不当材料进行加工或抛光可能会导致裂纹、碎屑、划痕和缺陷。表面缺陷会使碳化硅晶圆无法用于精密半导体元件。凭借其高材料去除率和出色的表面光洁度,Quantis使晶圆制造商能够高效地加工出外延准备好的碳化硅晶圆(epi-ready wafer)。

Quantis抛光研磨液是现有研磨机和化学机械抛光机的绝佳替代解决方案,为晶圆制造商提供了针对内部机器的另一种解决方案,或是一种用于扩大生产运营的创新选择。

 

Quantis抛光研磨液产品系列

 

Quantis抛光研磨液产品系列基于海博锐的 K285-T 水基配方标准生产,具有多种精细及亚微米级规格可供选择,其配方可根据特定的操作条件和工件进行定制,以最大限度优化性能。

 

微米级金刚石尺寸 (µ) 研磨液配方 容器规格
0-0.5 K285T系列 125 ml
0-1    • 水基
   • 易于清洁且环保
   • 悬浮性与分散性良好
   • 与大多数类型的抛光垫兼容
   • 可根据客户的工艺要求定制粘度
250 ml
0.5-1 500 ml
0-2 1 L
1-2 1 Gal
1-3 50 Gal

 

海博锐欢迎抛光研磨液使用者向我们的技术专家咨询,从而确保能针对他们的具体应用情况采用最佳配方。